ماسک های لیتوگرافی

در اغلب فعالیتها در ریزفناوری (MEMS)، فرايند لیتوگرافی از اهمیت ویژه­ای برخوردار است. الگوی یک تراشه میکرونی یا نانو با کمک فرآیندی به نام لیتوگرافی­ نوری، بر روی بستر/زیرلایه منتقل می­شود. در ابتدا بستر (ويفر) با لایه­ی نازکی از ماده­ی آلی حساس به نور به نام فوتورزیست پوشانده می­شود. به هر قسمت از فوتورزيست که نور تابانده شود، حلالیت آن تغییر پیدا می کند. سپس ماسک با الگوی مد نظر با بستر همراستا و یک منبع نور مانند Deep UVروی آن نور می­تاباند. در نهایت بستر درون ماده حلال قرار می گیرد و تصویر حاصل مانند فیلم عکاسی ظاهر و بازرسی می­شود. کار ماسک، نوردهی انتخابی به لایه‌ی فتورزیستی است که سطح ویفر را پوشانده است.

ماسک ساخته‌شده در شرکت رسا

یک ماسک از یک شیشه‌ی شفاف مانند Fused Silica، کوارتز یا Soda lime glass (جنس مورد استفاده در ساخت لامل آزمایشگاهی) ساخته شده که روی آن لایه‌ی نازکی از کروم لایه‌نشانی شده‌است. کروم لایه‌نشانی‌شده از عبور نور جلوگیری کرده و روی آن لایه‌ای از فتورزیست (معمولاً مثبت) وجود دارد.

به‌وسیله‌ی دستگاه نوشتن ماسک، قسمت‌هایی از فتورزیست نوردهی می‌شود. با ظهور فوتورزيست ماسک و انداختن ماسک در محلول زدایش‌گر کروم، قسمت‌هایی از کروم که به‌وسیله‌ی فتورزیست حفاظت نشده، برداشته می­شود و شیشه‌ی شفاف زیر آن هویدا می‌گردد. به این ترتیب، نور از این قسمت‌ با الگوی ایجادشده به‌وسیله‌ی کروم، عبور خواهد کرد.

فرآیند الگونگاری بر روی ویفر

شرکت رسا دارای خدمات و فعالیتهای زیر در زمینه تهیه و ساخت ماسک است:

  • تهیه ماسک خام با ابعاد مختلف (بر اساس سفارش، برای اطلاع بیشتر با شماره ۶۴۵۴۵۴63  – 021 تماس بگیرید)
  • ایجاد الگو روی ماسک (برای ایجاد الگو، فایل نرم افزاری ماسک با شرایط مشخص شده در این لینک باید توسط متقاضی آماده و تحویل آزمایشگاه گردد. برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه در این لینک تماس بگیرید)
  • طراحی ماسک (در صورت عدم تسط به طراحی ماسک، شرکت رسا، سرویس طراحی ماسک را ارائه می­دهد، برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه در این لینک تماس بگیرید)