ماسک های لیتوگرافی
در اغلب فعالیتها در ریزفناوری (MEMS)، فرايند لیتوگرافی از اهمیت ویژهای برخوردار است. الگوی یک تراشه میکرونی یا نانو با کمک فرآیندی به نام لیتوگرافی نوری، بر روی بستر/زیرلایه منتقل میشود. در ابتدا بستر(ويفر) با لایهی نازکی از ماده ی آلی حساس به نور به نام فوتورزیست پوشانده میشود. به هر قسمت از فوتورزيست که نور تابانده شود، حلالیت آن تغییر پیدا می کند. سپس ماسک با الگوی مد نظر با بستر همراستا و یک منبع نور مانند Deep UVروی آن نور میتاباند. در نهایت بستر درون ماده حلال قرار می گیرد و تصویر حاصل مانند فیلم عکاسی ظاهر و بازرسی میشود. کار ماسک، نوردهی انتخابی به لایهی فتورزیستی است که سطح ویفر را پوشانده است.
ماسک ساخته‌شده در شرکت رسا
یک ماسک از یک شیشه‌ی شفاف مانند Fused Silica، کوارتز یا Soda lime glass (جنس مورد استفاده در ساخت لامل آزمایشگاهی) ساخته شده که روی آن لایهی نازکی از کروم لایه‌نشانی شده‌است. کروم لایه‌نشانی‌شده از عبور نور جلوگیری کرده و روی آن لایه‌ای از فتورزیست (معمولاً مثبت) وجود دارد.
به‌وسیله‌ی دستگاه نوشتن ماسک، قسمت‌هایی از فتورزیست نوردهی میشود. با ظهور فوتورزيست ماسک و انداختن ماسک در محلول زدایش‌گر کروم، قسمت‌هایی از کروم که به‌وسیله‌ی فتورزیست حفاظت نشده، برداشته میشود و شیشه‌ی شفاف زیر آن هویدا می‌گردد. به این ترتیب، نور از این قسمت با الگوی ایجادشده به‌وسیله‌ی کروم، عبور خواهد کرد.
فرآیند الگونگاری بر روی ویفر
شرکت رسا دارای خدمات و فعالیتهای زیر در زمینه تهیه و ساخت ماسک است:
- تهیه ماسک خام با ابعاد مختلف (بر اساس سفارش، برای اطلاع بیشتربا سرپرست آزمایشگاه به شماره ۶۴۵۴۵۴63 – 021 داخلی 114 تماس بگیرید)
- ایجاد الگو روی ماسک (برای ایجاد الگو، فایل نرم افزاری ماسک با شرایط مشخص شده برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه به شماره ۶۴۵۴۵۴63 – 021 داخلی 114 تماس بگیرید)
- طراحی ماسک (در صورت عدم تسط به طراحی ماسک، شرکت رسا، سرویس طراحی ماسک را ارائه میدهد، برای اطلاع بیشتر با سرپرست آزمایشگاه به شماره ۶۴۵۴۵۴63 – 021 داخلی 114 تماس بگیرید)